等离子电浆抛光设备简介

等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

等离子电抛机采用的抛光技术是一种完全不同传统方法的新型抛光技术，称之为液态电浆抛光技术。此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。是利用电解质成分、电解质水溶液浓度与温度、电压及电流密度对工件表面粗糙度、光泽度、反射率等表面特性的关联，而研发出最适合操作的新型抛光技术。

主要特点:

(1)根据工件尺寸的不同,可以使工件在几十秒至2分钟内达到近镜面的抛光效果,使后续处理十分方便;

(2)在抛光过程中有效去除冲压件或其它制造件的边角毛刺;

(3)抛光过程中使工件表面产生一层钝化膜,使其保持耐久光亮,增强抛光面的抗腐蚀性能;

(4)抛光均匀程度优越,整个工件表面甚至于所有死角部位都可达到一致的近镜面效果;

(5)抛光过程由电参数控制,全过程采用进口PLC自动化控制,操作简单,维护方便;

(6)生产效率高,生产成本低;

(7)抛光过程不产生化学污染【低浓度药剂(95%~97%水+3%~5%的药品,PH值约6.5~7)】.

(8)清洁能力:EDTM系统不但定位为快速抛光机构之外,同时亦适合作为各种形状合金表面的去污、除脂、去氧化层、清洁残留杂质及化学药物,提供工件表面镀膜前最优质的前置处理。